稀土拋光粉公司-稀土拋光粉-康運(查看)

（氧化鐵）是歷早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業(yè)的發(fā)展，稀土拋光粉公司，于二十世紀30年代，首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次中，稀土拋光粉，一個在伊利諾斯州羅克福德的wf和barnesj公司工作的雇員，于1943年提出了一種叫做巴林士粉（barnesite）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由于稀土拋光粉具有拋光、質量好、污染小等優(yōu)點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統(tǒng)拋光粉的趨勢迅速發(fā)展起來。
主要指標：產品中w（reo）=99%，w（ceo2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），稀土拋光粉價格，晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。
1.4.2中系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物（w（reo）=65%，w（ceo2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，稀土拋光粉廠家，加入中間體（沉淀劑）使轉化成w（ceo2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發(fā)展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。
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