次磷-昆山韓鋁(在線(xiàn)咨詢(xún))-臺(tái)州化學(xué)拋光

精拋時(shí)在木桶中裝入鋼球和毛皮碎塊，連續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)數(shù)小時(shí)可得到耀眼光亮的表面。精密線(xiàn)紋尺的拋光是將加工表面浸在拋光液中進(jìn)行的，拋光液由粒度為w5～w0.5的氧化鉻微粉和乳化液混合而成。 拋光輪采用材質(zhì)勻細(xì)經(jīng)脫脂處理的木材或的細(xì)毛氈制成，其運(yùn)動(dòng)軌跡為均勻稠密的網(wǎng)狀，焦亞*鈉，拋光后的表面粗糙度不大于ra0.01微米，在放大40倍的顯微鏡下觀察不到任何表面缺陷。此外還有電解拋光等方法。
半導(dǎo)體行業(yè)cmp技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(ic)和超大規(guī)模集成電路中(ulsi)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題，次磷，它是可以在整個(gè)硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。
注意事項(xiàng)根據(jù)我公司長(zhǎng)時(shí)間對(duì)拋光工藝的摸索與實(shí)踐，光亮劑在拋光液中幾乎消耗相當(dāng)細(xì)微，因此時(shí)視具體的情況配比補(bǔ)加光亮劑，新配拋光溶液拋光時(shí)間要短；溫度偏高時(shí)，拋光時(shí)間要短些，化學(xué)拋光銷(xiāo)售，若拋光2min以上仍不光亮?xí)r，可觀察拋光時(shí)液面泡沫的多少，酌情添加光亮劑，臺(tái)州化學(xué)拋光，泡沫少時(shí)可按適當(dāng)比例添加部份光亮劑，泡沫多時(shí)只要按比例加入*和*即可。生產(chǎn)一段時(shí)間后的溶液呈乳白色且粘度大，所以化學(xué)拋光后的產(chǎn)品需要反復(fù)清洗，否則酸液殘留于工件表面將會(huì)導(dǎo)致表面產(chǎn)生白霜點(diǎn)。
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