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磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些？
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原理上講，兩點：氣場和磁場
磁控濺射在0.4pa的氣壓情況下離子撞擊靶材，濺射出粒子沉積到基材上，整體靶材的電壓幾乎一致，不影響濺射速率。
0.4pa的氣場情況是濺射速率較高的情況，氣場變化，壓強變大和變小都會影響濺射速率。
磁場大，束縛的自由電子增多，濺射速率*，磁場小，束縛的自由電子就少，濺射速率降低。
穩定住氣場和磁場，濺射速率也將隨之穩定。
在實際情況下，磁控濺射儀哪家好，氣場穩定，需要設計布氣系統，將布氣系統分級布置，磁控濺射儀多少錢，保障鍍膜機腔體內不同位置的進氣量相同，同時，布氣系統、靶材、基材等要遠離鍍膜機的抽氣口。需要穩定磁場，用高斯計測量靶材表面磁場強度，由于磁場線本身是閉合曲線，靶材磁場回路兩端磁場強度自然比中間位置強，可以選擇用弱磁鐵，同時，基材要避開無法調整的磁場變化較大的部分。
另外，在設備結構設計方面，磁控濺射過程中，需要基材與靶材保持同軸，磁控濺射儀，如果旋轉、直線運行的話，也要同軸旋轉、直線運行。
濺射鍍膜的特點
濺射就是從靶表面撞擊出原子物質的過程。濺射產生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。
濺射鍍膜與真空鍍膜相比，有如下特點:
1.任何物質都可以濺射， 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;
2.濺射薄膜與襯底的附著性好;
3.濺射鍍膜的密度高，孔少，膜層純度高;
4.膜層厚度可控性和重復性好。
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自動磁控濺射系統有哪些特點？
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自動磁控濺射系統產品特點：
不銹鋼腔體
晶振夾具具有的lt;1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下的載片
基于labview軟件的pc計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
完全的安全聯鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片
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