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鍍膜機真空鍍膜技術的特點，真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外
(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境
(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，氣相沉積設備廠商，
(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。
濺射鍍膜的操作與濺射鍍膜設備是密切相關的。目前商業上已有很精制的設備安裝在顯微鏡下的載物臺的位置上。濺射鍍膜時，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉到面對電子槍(陰*)的位置，調節濺射室中的氣壓，輝光放電
鍍膜技術在平板顯示器中的應用 所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ito膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說：沒有薄膜技術就沒有平板顯示器件。
鍍膜技術在太陽能利用方面的應用 當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效的利用太陽熱能，新北氣相沉積設備，就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。理想的選擇吸收面是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。
鍍膜技術在防偽技術中的應用 防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
鍍膜技術在飛機防護涂層方面的應用 飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，氣相沉積設備廠家，解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
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